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淺(qian)析漆膜塗(tu)鍍(du)層測厚(hou)儀無(wu)法(fa)避(bi)免的(de)測量誤差問(wen)題(ti)
更(geng)新時(shi)間：2022-03-14 | 點(dian)擊率(lv)：1318
漆膜塗(tu)鍍(du)層測厚(hou)儀主(zhu)要(yao)用(yong)於金(jin)屬(shu)材料(liao)表面塗(tu)鍍(du)層厚(hou)度的測量，壹般常(chang)采(cai)用無(wu)損檢(jian)測方(fang)法(fa)。但(dan)是，由(you)於測量對象(xiang)、測量方法(fa)、測量環(huan)境、儀器(qi)設(she)備(bei)等因(yin)素引(yin)進了諸多(duo)測量誤差，為確保測量結(jie)果的(de)準(zhun)確(que)可(ke)靠(kao)，有必要(yao)對其進(jin)行(xing)不確定(ding)度分析。
對漆膜塗(tu)鍍(du)層測厚(hou)儀產(chan)生(sheng)的(de)測量誤差分析如下：
1、對於較(jiao)薄的覆蓋(gai)層，由(you)於受(shou)儀器(qi)本(ben)身(shen)測量精度和覆(fu)蓋(gai)層表面粗(cu)糙(cao)度的影響(xiang)，較(jiao)難準(zhun)確(que)測量覆蓋(gai)層厚(hou)度，尤其(qi)是當(dang)覆(fu)蓋(gai)層厚(hou)度小於5μm的情(qing)況；對於較(jiao)厚(hou)的(de)覆蓋(gai)層，其(qi)測量結(jie)果相(xiang)對誤差近似為壹常(chang)數(shu)，絕(jue)對誤差隨覆蓋(gai)層厚(hou)度增加(jia)而增(zeng)大(da)。
2、不(bu)同鐵磁(ci)性(xing)材(cai)料(liao)或(huo)同(tong)壹(yi)鐵磁(ci)性(xing)材(cai)料(liao)采(cai)用(yong)不(bu)同的熱處(chu)理(li)方(fang)式和冷加工工藝(yi)後，其磁(ci)特(te)性(xing)均(jun)有(you)較(jiao)大(da)差異，而材料(liao)的(de)磁(ci)特(te)性(xing)差異會直(zhi)接影響(xiang)對磁(ci)鐵或檢(jian)測線圈的磁(ci)作用，為減小或消(xiao)除磁(ci)特(te)性(xing)差異產(chan)生(sheng)的(de)影響(xiang)，應采(cai)用(yong)磁(ci)特(te)性(xing)與試樣基(ji)體(ti)相(xiang)同(tong)或相近(jin)的(de)金(jin)屬(shu)材料(liao)做(zuo)為(wei)基(ji)體對儀器(qi)校(xiao)準(zhun)。
3、由(you)於磁(ci)場(chang)在(zai)鐵磁(ci)性(xing)基(ji)體(ti)材(cai)料(liao)中的(de)分布狀態(tai)在(zai)壹(yi)定(ding)範(fan)圍內與基體厚(hou)度密切(qie)相(xiang)關，當(dang)基(ji)體厚(hou)度達(da)到某臨(lin)界(jie)厚(hou)度時，這種(zhong)影響(xiang)才(cai)能減(jian)小或忽略。若試樣基(ji)體(ti)厚(hou)度小於臨界(jie)厚(hou)度時，應通(tong)過化學方(fang)法(fa)除去(qu)試樣的(de)局(ju)部覆蓋(gai)層，利(li)用(yong)試樣基(ji)體(ti)對儀器(qi)校(xiao)準(zhun)。
4、儀器(qi)對試樣表面的(de)不(bu)連續(xu)敏(min)感(gan)，太(tai)靠(kao)近(jin)試樣邊緣(yuan)或(huo)內轉角(jiao)處(chu)測量時，磁(ci)場(chang)將(jiang)會發(fa)生(sheng)變(bian)化，測量結(jie)果將(jiang)不可(ke)靠。因(yin)此(ci)，不要(yao)在(zai)靠(kao)近不連(lian)續(xu)的(de)部位如邊緣(yuan)、孔(kong)洞(dong)和內轉角(jiao)等處(chu)進(jin)行(xing)測量。
5、金(jin)屬(shu)機械(xie)加(jia)工方(fang)向(xiang)對材料(liao)的(de)磁(ci)特(te)性(xing)會產(chan)生(sheng)較(jiao)大(da)影響(xiang)，當(dang)使(shi)用雙極式測頭(tou)或(huo)被磨(mo)損而(er)不(bu)平整(zheng)的單極式測頭(tou)測量時，測量結(jie)果會受(shou)到磁(ci)性(xing)基(ji)體(ti)金(jin)屬(shu)機械(xie)加(jia)工(如軋制)方(fang)向(xiang)的影響(xiang)。因(yin)此(ci)，在(zai)試樣上(shang)測量時應使(shi)測頭(tou)的(de)方向(xiang)與在(zai)校(xiao)準(zhun)時(shi)該測頭(tou)所(suo)取方(fang)向(xiang)壹致(zhi)。
6、金(jin)屬(shu)材料(liao)由(you)於磨(mo)削等(deng)加(jia)工方(fang)式可能帶(dai)來剩磁(ci)，影響(xiang)儀器(qi)測量，試樣測量前(qian)應進(jin)行(xing)消(xiao)磁(ci)處(chu)理(li)，並在(zai)互為180°的兩個(ge)方(fang)向(xiang)上進(jin)行(xing)測量。
7、基體金(jin)屬(shu)曲率的(de)變(bian)化將(jiang)影響(xiang)測量結(jie)果，曲(qu)率半徑越小，對測量結(jie)果的(de)影響(xiang)越大(da)。當(dang)測量曲率較(jiao)小的試樣時(shi)，應通(tong)過化學方(fang)法(fa)除去(qu)試樣的(de)局(ju)部覆蓋(gai)層，利(li)用(yong)試樣的(de)無(wu)膜部分作為基體對儀器(qi)校(xiao)準(zhun)。
8、基(ji)體(ti)金(jin)屬(shu)表面粗(cu)糙(cao)度將(jiang)影響(xiang)測量結(jie)果，粗(cu)糙度程度增加(jia)，對測量結(jie)果的(de)影響(xiang)增(zeng)大(da)。應對試樣基(ji)體(ti)多(duo)個(ge)位(wei)置進(jin)行(xing)零(ling)點(dian)校(xiao)正，並在(zai)試樣不(bu)同(tong)位(wei)置(zhi)上進行(xing)多次測量，測量次數(shu)至少(shao)應增(zeng)加(jia)到5次或(huo)以(yi)上，以(yi)減小影響(xiang)。
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